基片处理设备

摘要

一种基片处理设备(10)包括框架(14)，第一和第二供应辊(16，18)和基片处理组件，所述基片处理组件包括可弹性变形的构件，用于对第一和第二供应辊施加压力，进行基片处理操作。一种用于处理基片(12)的方法，包括提供可转动地安装在基片处理设备(10)上的第一和第二供应辊，其中至少所述第一和第二供应辊之一具有位于其上的压敏粘结剂。选定的基片(12)能送入基片接收开口中，且第一和第二基片在其相对侧定位。第一和第二基片前进经过基片接收开口。当所述选定基片及第一和第二基片前进通过所述基片接收开口时，所述可弹性变形的构件变形而对其施加压力，从而使粘结剂粘合在选定基片上。

主权项

1.一种用于处理选定基片的基片处理设备，包含：框架；可转动地安装在所述框架上的第一和第二供应辊，第一供应辊包括第一供应基片，第二供应辊包括第二供应基片，至少所述第一和第二供应辊之一具有位于其上的压敏粘结剂；基片处理组件，包括基片接收开口和固定在所述开口内的可弹性变形的构件，所述基片接收开口能使选定的基片送入，其中第一和第二基片位于其相对侧，当所述选定基片及第一和第二基片前进通过所述基片接收开口时，所述可弹性变形的构件变形而对其施加压力，从而使粘结剂粘合在选定基片上。