| 主权项 |
1.一种液晶显示装置,其包含: 一第一基板; 一构造,其形成于该第一基板上,以便具有一直线 形状、或是藉由结合复数个直线所形成的形状; 一光阻薄膜,其形成于该构造上,且以大体上与该 构造相同方向延伸之一皱折状粗糙度系设置于该 光阻薄膜的一表面上; 一反射电极,其形成于该光阻薄膜上,并具有一顺 着该光阻薄膜之表面的粗糙度; 一第二基板,其系布置成与该第一基板相对;及 一液晶,其密封于该第一基板与第二基板之间。 2.如申请专利范围第1项之液晶显示装置,其中该构 造系藉由一光阻剂所形成。 3.如申请专利范围第1项之液晶显示装置,其中该构 造系藉由与线路相同之材料所形成,该线路将一讯 号供应到反射电极。 4.如申请专利范围第1项之液晶显示装置,其中该构 造包含:复数个以一水平方向延伸,并以一垂直方 向对齐之第一构造、以及两个第二基板,其以一垂 直方向延伸,并布置成以水平方向从两侧放置该等 复数个第一构造; 其中第一构造与第二构造皆系设置于一图像元件 中。 5.如申请专利范围第4项之液晶显示装置,其中该第 一构造之高度系高于第二构造的高度。 6.如申请专利范围第1项之液晶显示装置,其中一用 以使光线穿过之开孔部分系设置于该反射电极中 。 7.一种液晶显示装置,其包含: 一第一基板; 一阶状构造,其形成于该第一基板上,以便具有一 阶状横剖面; 一光阻薄膜,其系形成于该阶状构造上,且在该光 阻薄膜之一表面上系设置一以大体上与该阶状构 造相同方向延伸的皱折状粗糙度; 一反射电极,其形成于该光阻薄膜上,并具有一随 着该光阻薄膜之表面的粗糙度; 一第二基板,其布置成与该第一基板相对;及 一液晶,其密封于该第一基板与第二基板之间。 8.如申请专利范围第7项之液晶显示装置,其中该阶 状构造之一横剖面(其系垂直于一纵方向)系为非 对称剖面。 9.如申请专利范围第7项之液晶显示装置,其中该粗 糙度在该反射电极之一表面上的一方位之存在可 能性在水平方向系为最大。 10.如申请专利范围第7项之液晶显示装置,其中该 阶状构造系藉由一光阻剂所形成。 11.如申请专利范围第7项之液晶显示装置,其中该 阶状构造之至少一部分系藉由与线路相同的材料 所形成,该线路将一讯号供应到反射电极。 12.如申请专利范围第7项之液晶显示装置,其中一 用以使光线通过之开孔部分系设置于该反射电极 中。 13.一种制造一液晶显示装置之方法,该方法包括之 步骤为: 在一第一基板上形成一闸极滙流排线路、一资料 滙流排线路、以及一薄膜电晶体,其分别连接到该 闸极滙流排线路与资料滙流排线路; 在该第一基板之整个上表面上形成一光阻剂薄膜; 仅固化该光阻剂薄膜之一表层; 藉着施加一退火,在该光阻剂薄膜之一表面上形成 一皱折状粗糙度; 在该光阻剂薄膜上形成一反射电极,其系连接到该 薄膜电晶体;及 布置一第二基板,使其与该第一基板相对,并将一 液晶密封于该第一基板与第二基板之间; 其中一构造(其具有一直线形状,或是藉由结合复 数个直线所形成之形状)系与该闸极滙流排线路以 及资料滙流排线路其中任一者同步形成。 14.一种制造一液晶显示装置之方法,该方法包括之 步骤为: 在一第一基板上分别形成一闸极滙流排线路、一 资料滙流排线路、一薄膜电晶体,其连接到该闸极 滙流排线路与资料滙流排线路、以及一阶状构造, 其具有一阶状横剖面; 在该第一基板之整个上表面上形成一光阻剂薄膜; 仅固化该光阻剂薄膜之一表层; 藉着施加一退火,在该光阻剂薄膜之一表面上形成 一皱折状粗糙度; 在该光阻剂薄膜上形成一反射电极,其系连接到该 薄膜电晶体;及 布置一第二基板,使其与该第一基板相对,并将一 液晶密封于该第一基板与第二基板之间; 其中该阶状构造之至少一部分系与该闸极滙流排 线路以及资料滙流排线路至少其中一者同步形成 。 15.如申请专利范围第14项之液晶显示装置的制造 方法,其中该阶状构造系藉由光阻剂所形成。 16.一种制造一液晶显示装置之方法,该方法包括之 步骤为: 在一第一基板上形成一第一导体薄膜,且接着藉由 使该第一导体薄膜产生图案而形成一闸极滙流排 线路以及一资料滙流排线路; 在该第一基板之整个上表面上形成一第一绝缘薄 膜; 在该第一绝缘薄膜上形成一半导体薄膜,其作为一 薄膜电晶体之一主动层; 在该第一绝缘薄膜上形成一第二导体薄膜,且接着 形成该薄膜电晶体之一源极与一汲极、一连接到 该汲极之资料滙流排线路、以及一第二图案,其宽 度较第一图案窄,并藉着使该第二导体薄膜产生图 案而形成与该第一图案重叠; 在该第一基板之整个上表面上形成一第二绝缘薄 膜; 在该第二绝缘薄膜上形成一光阻剂薄膜; 仅固化该光阻剂薄膜之一表层; 藉着施加一退火,在该光阻剂薄膜之一表面上形成 一皱折状粗糙度; 在该光阻剂薄膜上形成一反射电极;及 布置一第二基板,使其与该第一基板相对,且接着 将一液晶密封于该第一基板与第二基板之间。 图式简单说明: 第1图系为一概略剖面图,其显示先前技术中之一 反射式液晶显示装置; 第2A图系为一概略图,其显示液晶分子在电极之间 没有施加一电压时的对齐方向; 第2B图系为一概略图,其显示液晶分子在电极之间 施加一电压时的对齐方向; 第3图系为一概略图,其显示先前技术中之另一反 射式液晶显示装置的一范例; 第4A图系为一概略图,其显示具有一火焰状反射电 极之一反射式液晶显示装置的一范例; 第4B图系为一概略图,其显示具有一火焰状反射电 极之一反射式液晶显示装置的另一范例; 第5图系为一标绘图,其显示一办公室中之光源分 布的测量结果; 第6图系为一概略图,其显示一种情况,其中使用者 使用移动式资讯终端机; 第7图系为一概略图,其显示就先前技艺中一相等 之环型图案而言,形成于该反射电极之一表面上的 非均匀性图案; 第8A图系为一平面图,其显示一构造之一范例; 第8B图系为一剖面图,其显示该构造、以及形成于 一光阻剂薄膜(其形成在该构造上)上之粗糙度; 第9A图系为一平面图,其显示用以模拟一反射特征 之反射电极的形状; 第9B图系为一平面图,其显示用以模拟反射特性之 一光源; 第10图系为一标绘图,其显示该反射特征之模拟结 果; 第11图系为一区块图,其显示根据本发明之一第一 实施例的一液晶显示装置; 第12图系为一平面图,其显示根据该第一实施例之 反射式液晶显示装置的一个图像元件; 第13图系为沿着第12图中之I-I线所取得之一剖面图 ; 第14A到14D图系为剖面图,其显示一种制造根据该第 一实施例之反射式液晶显示装置的方法; 第15图系为一图式,其显示藉由该第一实施例之方 法所形成的反射式电极之一表面的显微摄影图像( 放大20倍); 第16图系为一概略图,其显示一皱折状粗糙度之一 方位表面; 第17图系为一标绘图,其显示在一方位角方向中之 存在可能性分布的模拟结果; 第18图系为一概略图,其显示一相位板以及一偏光 板之布置状态; 第19图系为一表,其显示在范例与比较范例中之面 板的反射比与对比之测量结果; 第20图系为一剖面图,其显示一范例,其中一沟槽系 形成于直线构造之间; 第21图系为一剖面图,其显示一范例,其中在反射电 极中系设置开孔部分,用以使光线通过; 第22图系为一平面图,其显示一范例,其中该皱折状 粗糙度之方向系设定成水平方向; 第23图系为一平面图,其显示一范例,其中以水平方 向延伸之直线构造与以垂直方向延伸的直线构造 系设置于该图像元件之中; 第24图系为一平面图,其显示当第23图中所示之该 构造形成时,形成于该反射电极之表面上的皱折状 粗糙度; 第25图系为一平面图,其显示一范例,其中以水平方 向延伸之该等直线构造系形成于图像元件内之一 显示区域中,且该等以垂直方向延伸之直线构造系 形成于该图像元件之非显示区域中; 第26图系为一剖面图,其显示一范例,其中该等以水 平方向延伸之直线构造系形成较该等以垂直方向 延伸的直线构造为高; 第27图系为一标绘图,其显示该皱折状粗糙度之平 均入射角与反射比之间的关系; 第28图系为一平面图,其显示根据本发明之一第二 实施例的一液晶显示装置之一图像元件; 第29A图系为沿着第28图中之Ⅱ-Ⅱ线所取得的一剖 面图; 第29B图系为一概略图,其更为详细地显示一阶状构 造之结构; 第30A到30F图系为图式,该等图式显示一种制造根据 该第二实施例之反射式液晶显示装置的方法; 第31图系为一概略图,其显示构成该阶状构造之第 一与第二图案尺寸的一范例; 第32图系为一图式,其显示藉由该第二实施例之方 法所形成的反射式电极之一表面的显微摄影图像( 放大20倍); 第33图系为一概略图,其显示一种测量反射比与对 比之方法; 第34A图系为一概略图,其显示一藉由反射电极之表 面上的皱折状粗操度所反射之光线强度,该反射电 极在面板之法线方向并未形成火焰状; 第34B图系为一概略图,其显示一藉由反射电极之表 面上的皱折状粗操度所反射之光线强度,该反射电 极在面板之法线方向系形成火焰状; 第35图系为一概略图,其显示相位板与偏光板之布 置状态; 第36图系为一剖面图,其显示一范例,其中该沟槽系 形成于阶状构造之间; 第37图系为一剖面图,其显示一范例,其中该反射电 极中系设置开孔部分,用以使光线通过。 |
