| 摘要 |
<P>Dispositif antipollution pour l'élimination des gaz toxiques utilisés dans l'élaboration des matériaux semi-conducteurs du groupe III-V. <BR/> Dispositif antipollution pour l'élimination des gaz toxiques utilisés dans l'élaboration des matériaux semi-conducteurs du groupe III-V, ces gaz toxiques étant typiquement l'arsine et/ou la phosphine en atmosphère d'hydrogène associés ou non à des traces de chlore, de gallium, d'indium et/ou d'aluminium, caractérisé en ce qu'il est formé d'une chambre de combustion dont les parois externes sont refroidies, qui reçoit par une première entrée l'hydrogène auquel sont mêlés les gaz et produits à éliminer, et qui reçoit par une seconde entrée de l'oxygène gazeux, sous une pression contrôlée pour que l'association de l'oxygène et de l'hydrogène soit différente de la composition du mélange dit "détonnant", en ce que l'hydrogène forme dans l'oxygène une flamme dite "de diffusion" alimentée par des moyens d'allumages et dans laquelle les produits à éliminer sont brûlés, en ce que les résidus de cette combustion qui sont notamment l'anhydride arsénieux et/ou l'acide phosphorique et dans tous les cas de l'eau, sont recueillis sur une sortie munie de moyens de régulation de la pression et dirigés vers des moyens de stockage, et en ce qu'il comprend en outre des moyens de contrôle de la sécurité. <BR/> (CF DESSIN DANS BOPI)<BR/> <BR/></P>
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