| 主权项 |
1.一种电解光制系统,包括:电解槽,收容有电解液;支承装置,用以支持一电极,此电极位于固定在电解槽内之工件的近傍;驱动装置,用以以驱动电极做与工件相对之移动;第一装置,用以将脉冲施加到以预设间隙与工件相离定位之电极上;第二装置,其系在第一装置施加至少一个脉冲之后,将电解液注入该预设间隙内,以逐出在该间隙内之含有残渣物之电解液;第三装置,用以排出电解槽之电解液;第四装置,用以清理所排出之电解液,以产生清净电解液;及第五装置,用以反复施行第一至第四之装置的步骤。2.如申请专利范围第1项所述之系统,其中,第一装置系在加工之早期施加各个具有较短脉宽之脉冲,但在加工之后期即施加各个具有较长脉宽之脉冲。3.如申请专利范围第1项所述之系统,其中,第一装置系在加工之早期施加各个具有较低电流密度之脉冲,但在加工之后期即施加各个具有较高电度之高电流密度之脉冲。4.如申请专利范围第1项所述之系统,其中,第二及第三装置系在数次脉冲施加之后,始予以运转。5.如申请专利范围第1项所述之系统,进一步包括第六装置,用以保持供给电解槽之电解液的压力恒定。图示简单说明:第1图为依本发明电解光制加工机之前视图。第2图为其侧视图。第3图为方块图,显示本发明之系统。第4图为方块图,显示对电极供给电流之系统。第5图为方块图,显示电解液之过滤系统。第6a及Gb图表示脉衡之波形。 |
