发明名称 以热制之二氧化矽为底质之紧密体制法及用途
摘要 本发明系有关以热制之二氧化矽为底质之紧密体,这种紧密体具有下列的物化特征:外直径 2-15mmBET表面积 50-400 m2/g孔隙体积 0.6-1.3 ml/g破裂强度 40-120N孔隙分布 孔隙的直径至少大于5nm,有至少80%的孔隙其直径在5-40nm之间组成 以重量计有超过95%为SiO2,剩下者为Al2O3制造这种紧密体的方法是将 热制之二氧化矽用高岭土和/或石墨,糖,淀粉,尿素或石墨以及水压紧并将此混合物在80-120℃的温度下乾燥,接着粉碎成粉末,挤压粉末以形成紧密体,将此紧密体在 400 - 1200℃的温度中调节 0.5 -6小时。这种紧密体可以做为触媒担体或触媒之用。
申请公布号 TW180678 申请公布日期 1992.03.21
申请号 TW078100722 申请日期 1989.02.01
申请人 提古沙公司 发明人 克罗斯.狄勒;翰福来德.柯斯;篮哈特.克林吉尔
分类号 B01J21/08;B01J32/00 主分类号 B01J21/08
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项
地址 德国