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发明名称
Verfahren zur Herstellung eines Maskenträgers aus SiC für Strahlungslithographie-Masken.
摘要
申请公布号
DE58909366(D1)
申请公布日期
1995.08.31
申请号
DE19895009366
申请日期
1989.12.04
申请人
PHILIPS PATENTVERWALTUNG GMBH, 20097 HAMBURG, DE
发明人
HARMS, MARGRET, D-2000 HAMBURG 61, DE;LUETHJE, HOLGER, DIPL.-ING., D-2083 HALSTENBEK, DE;MATTHIESSEN, BERND, DIPL.-ING., D-2000 HAMBURG 50, DE
分类号
G03F1/14;(IPC1-7):G03F1/14
主分类号
G03F1/14
代理机构
代理人
主权项
地址
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