| 主权项 |
1.一种具有静电基材把持装置之传输装置,包括具有表面之牵转具;在该表面之下侧延伸且总体上系相互平行之第1导体阵列;在该表面之下侧延伸并总体上系平行于该第1导体之第2导体阵列,每个第2导体系接近第1导体而设置俾在两者之间形成窄的空隙;将电位差加于该第1及第2导体以在该空隙间产生静电场俾能将基材吸住于该牵转具表面之设施,及控制该电位差供给设施以使电位差仅加于该第1及第2导体之被选定之导体上俾控制该牵转具表面上夹持基材之区域之控制设施。2.如申请专利范围第1项之具有静电基材把持装置之传输装置,其中该牵转具系为可挠性输送带。3.如申请专利范围第1项之具有静电基材把持装置之传输装置,其中该牵转具系为旋转式圆筒。4.如申请专利范围第1项之具有静电基材把持装置之传输装置,其中该牵转具包括总体上系在一共通平面可相互平行移动之第1及第2构件,及用来相对地移动前述构件之设施;该第1及第2构件系各自装载有该第1及第2导体阵列,及该控制设施系执行这样的控制,即当前述两构件相对地在一个方向上移动时,将电位差供给在两构件之一的第1及第2电极之间而当前述两构件相对地于相反方向上移动时将电位差加于另一构件之第1及第2电极之间。5.如申请专利范围第1项之具有静电基材把持装置之传输装置,其中前述控制设施包括:在该电位差供给设施及在至少一个阵列内之每个导体间之回路上的开关,及选择性地动作这些开关之作动措施。6.如申请专利范围第5项之具有静电基材把持装置之传输装置,其中该作动措施系设在沿着该牵转具之路径并与设在其上之开关相对之一个或多个固定区域,该开关当牵转具被移动以将它们定位在该区域内时即动作。7.一种具有静电基材把持装置之传输装置,包括一个支撑;一对相互平行且可旋转地安装于该支撑上之分开设置之滚子;环绕着该一对滚子并在这两滚子间拉伸以形成上部输送带拉伸及下部输送带拉伸之输送带环,该输送带环具有外部表面;用来旋转至少一前述滚子俾使上部输送带拉伸在选定之纵向方向上移动之设施;设置于该输送带环之静电压紧格栅,该格栅系含有第1及第2电极阵列,及用来将电位差供给于第1及第2电极阵列之间俾产生由该输送带环之外部表面发出之静电场之电压源,该静电场系强到足够吸住放置于输送带环之外部表面之基材。8.如申请专利范围第7项之具有静电基材把持装置之传输装置,其中在输送带环上所产生之静电场之强度系依放置于输送带环之外部表面上之基材之重量及刚性而定,使基材能从在输送带环之出口端排出而不会被带着回转。9.如申请专利范围第7项之具有静电基材把持装置之传输装置,其中另外包括用来使该第1及/或第2电极阵列内之被选定的电极与该电压源为电性隔离俾使仅有该输送带环之被选定之段部可吸住基材之设施。10.如申请专利范围第9项之具有静电基材把持装置之传输装置,其中该隔离设施包括连接在该电源与至少一个电极阵列之每个电极之间之开关,及当这些开关行进至位于输送带环路径上之被选定之站时即打开这些开关之设施。11.如申请专利范围第10项之具有静电基材把持装置之传输装置,其中前述那些开关系当前述那些站除去光线时即打开之感光开关。12.如申请专利范围第7项之具有静电基材把持装置之传输装置,其另外含有涂于该输送带环之外部表面上之高摩擦涂层。13.如申请专利范围第12项之具有静电基材把持装置之传输装置,其中该涂层系为氯丁橡胶或硅橡胶。14.如申请专利范围第7项之具有静电基材把持装置之传输装置,其另外包括与第1对滚子相似之第2对滚子;与第1输送带环相似且环绕着该第2对滚子之第2输送带环,及用来将前述两对滚子相对地作串列定位俾使一个输送带环之上部拉伸实质上系位在另一个输送带环之下部拉伸之相同平面之设施,以致被支撑于一个输送带环上且暴露一面之基材可被移交到另一输送带环而暴露其另一面。15.如申请专利范围第7项之具有静电基材把持装置之传输装置,其另外包括用来监视该输送带环相对于被选定位置之侧向位置及产生表示此位置之输出信号之监视设施;用来响应控制信号以将输送带环朝侧向移位之移位设施;及用为响应该输出信号以传送控制信号至该移位设施俾使该移位设施维持输送带环于该选定位置上之伺服设施。16.如申请专利范围第15项之具有静电基材把持装置之传输装置,其中该监视设施含有设在输送带环上之输送带位置符号,及位于邻近该输送带环俾用来探测该符号及产生表示该符号之该输出信号之探测器。17.如申请专利范围第16项之具有静电基材把持装置之传输装置,其中该符号包含在输送带环上作纵向延伸之多数紧密设置之平行线,及该探测器系能产生干扰前述那些平行线之光格栅型检出器。18.如申请专利范围第16项之具有静电基材把持装置之传输装置,其另外包括有用来将影像写于被夹持在该输送带环之外部表面上之基材之印刷头;用来将位在该输送带环之外部表面之相对侧上之印刷头可移动地定位之定位设施;用来响应印刷头之控制信号以在垂直于该选定方向之侧向移动该印刷头之移动设施,及用来响应该输出信号以送出印刷头控制信号至该移动设置俾在该侧向移动印刷头以补偿输送带环相对于该选定位置之任何侧向移动之第2伺服设施。19.如申请专利范围第18项之具有静电基材把持装置之传输装置,其另外包括沿着该输送带环标注之时序标记;用来感测该时序标记并产生对应该标记之时序信号之感测器;用来响应该时序信号以提前或延迟印刷头之写入动作俾补偿输送带环在该选定方向移动之任何改变之印刷控制设施。20.如申请专利范围第19项之具有静电基材把持装置之传输装置,其中该监视设施也包括在与第1探测器分隔之地点且和输送带环相对之位置上用来探测该符号之侧向位置及产生表示该符号之位置之第2输出信号之第2探测器,及该第2伺服设施也对该第2输出信号发生响应以产生印刷头之控制信号至该移动设施。21.如申请专利范围第15项之具有静电基材把持装置之传输装置,其中前述移位设施包含用来改变该滚子之一之圆锥度之设施。22.如申请专利范围第21项之具有静电基材把持装置之传输装置,其中该滚子之前述之一系包括一个圆筒中心体;在该中心体之相对端上之一对可变直径延伸构件;环绕该中心体及该延伸构件之弹性圆柱套筒,及用来响应该控制信号以变更该延伸构件之直径之设施。23.一种具有静电基材把持装置之传输装置,包括有一个支撑;一对相互平行且可旋转地安装于该支撑上之分开设置之滚子;环绕着该一对滚子并在这两滚子间拉伸以形成上部输送带拉伸及下部输送带拉伸之输送带环,该输送带环具有外部表面;用来旋转至少一前述滚子俾使上部输送带拉伸在选定之纵向上移动之设施;用来监视输送带环相对于选定位置之侧向位置并产生代表此侧向位置之输出信号之监视设施;用来将影像写于被夹持在该输送带环外部表面上之基材之印刷头;用来将位在该输送带环外部表面之相对侧上之印刷头可移动地定位之定位设施;用来响应印刷头之控制信号以在与该选定之纵向垂直之侧向上移动该印刷头之移动设施,及用来响应该输出信号以传送印刷头控制信号至该移动设施俾在该侧向移动印刷头以补偿输送带环相对于该选定位置之任何侧向移动之伺服设施。24.如申请专利范围第23项之具有静电基材把持装置之传输装置,其另外包括沿着该输送带环标注之时序标记;用来感测该时序标记并响应该时序标记产生时序信号之感测器,及用来响应该时序信号以提前或延迟印刷头之写入动作俾补偿在该选定方向上之输送带环之移动之任何改变之印刷控制措施。25.如申请专利范围第24项之具有静电基材把持装置之传输装置,其中该监视措施也含有在输送带上之定位符号及在分隔的地点且与输送带环相对之位置上用来探测该符号之侧向位置及产生表示该符号之位置之第2输出信号之一对探测器,及该第2伺服设施也对该第2输出信号发出响应以产生印刷头之控制信号并送至该移动设施。26.一种具有静电基材把持装置之传输装置,包括用来输送物品之输送器;用来在选定之纵向上移动输送器之设施;用来物品之位置固定于输送器上之设施;位在该输送器之相对侧上之第1及第2间隔设置之工作站,每站皆含有物品加工设施;用来响应控制信号以在与该选定之纵向垂直之侧向上移动物品加工设施之移动设施;用来监视该输送器相对于一选定固定位置之侧向位置并产生对应该侧向位置之输出信号之探测设施,及用来响应该输出信号以传送控制信号至该移动设施俾在该第1及第2工作站移动该物品加工设施以补偿在该物品被固定于输送器后输送器相对于该选定位置之任何侧向移动之伺服设施。27.如申请专利范围第26项之具有静电基材把持装置之传输装置,其另外包括标柱于该输送器上之纵向串列之时序标记;用来感测该时序标记并产生响应该标记之时序信号之感测设施,及用来响应该时序信号以提前或延迟该物品加工设施之作业俾补偿在该物品固定于输送器后输送器在该纵向移动之任何改变之控制设施。28.如申请专利范围第26项之具有静电基材把持装置之传输装置,其中该监视设施也含有在与第1探测器分隔之地点且和输送器相对之位置上用来探测该输送器相对于该固定位置之侧向位置并产生代表该侧向位置之第2输出信号,及该第2伺服设施也对该第2输出信号发生响应以提供该控制信号至该移动设施。图式简单说明:第一图系采用本创作之传输装备之彩色印刷机之等角视图;第二图系第一图之装备之输送带牵转具放大分割平视图;第三图系第一图之装备上所使用之可变几何导滚子之分割断面图;第三A系第三图之线3A-3A之断面图;第四图系能作两面印刷之输送带传输装备之概略图;第五图系使用本创作之往复式传输装备之概略图; |
