发明名称 |
CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE DEVICE AND EXPOSING SYSTEM |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH11219679(A) |
申请公布日期 |
1999.08.10 |
申请号 |
JP19980021185 |
申请日期 |
1998.02.02 |
申请人 |
ADVANTEST CORP |
发明人 |
SETO ISAMU;SAITO ATSUSHI;YAHARA HIDEFUMI |
分类号 |
G21K5/04;G03F7/20;H01J37/04;H01J37/147;H01J37/305;H01J37/317;H01L21/027;(IPC1-7):H01J37/305 |
主分类号 |
G21K5/04 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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