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经营范围
发明名称
光照射装置、光照射方法、结晶化装置、结晶化方法、装置及光调变元件
摘要
一种光照射装置包含一光调变元件(1),其调变一入射光束的相位以获得一具有底部最小光强之V型光强分布,以及一成像光学系统(3),将来自该光调变元件的调变光束施加至一照射目标表面(4),藉此将该V型光强分布提供于该照射目标表面之上。该光调变元件具有这样的一复合振幅透射率分布,该复合振幅透射率分布的相位数值二次微分,在该成像光学系统的影像空间中,于V型光强分布的底部大致上变为零。
申请公布号
TW200533982
申请公布日期
2005.10.16
申请号
TW094102942
申请日期
2005.01.31
申请人
液晶先端技术开发中心股份有限公司
发明人
谷口幸夫
分类号
G02F1/01
主分类号
G02F1/01
代理机构
代理人
蔡清福
主权项
地址
日本
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