| 主权项 |
1﹒自氧体中去除其所含气态汞之方法,其中使含汞、氧及二氧化硫之氧流与含铜盐之溶液接触,其特征为于温度20─100℃,较佳者50─70℃之下,用含有硫酸之含氯吸收溶液处理实质上无尘、冷却之气流,该气流含汞金属与或含或不含汞氧化物:由是使中间生成之汞(l)氧化,并使其转化为可溶性汞一Ⅱ一氯错合物,使中间生成之铜(l)再氧化成高价,及使生成之可溶性汞─(Ⅱ)─氯错合物酸溶液中分离。2﹒根据申请专利范围第1项之方法,其特征为该吸收溶体含铜(Ⅱ)离子,较佳者为铜(Ⅱ)氯化物,含量O﹒5─100g/l,较佳者0﹒5─6gCu**/1。3﹒根据申请专利范围第1或2项之方法,其特征为该吸收溶液亦含有氯化汞(Ⅱ)离子。4﹒根据申请专利范围第3项之方法,其特征为该吸收溶液含0﹒1─5g'Hg**/1氯化汞(Ⅱ)离子。5﹒根据申请专利范围第1项之方法,其特征为使汞(Ⅱ)─氯错合物经过离子交换剂,以硫溶液处理该载汞之交换剂俾去除汞,并且使硫再生。6﹒根据申请专利范围第1项之方法,其特征为藉溶剂萃取法,自该液中去除溶解之汞(Ⅰ)─氯错合物。7﹒根据申请专利范围第1项之方法,其特征为以树枝状铜粉剂处理汞(Ⅱ)一氯错合物,以实现汞齐化作用。8﹒根据申请专利范围第1项之方法,其特征为该气流起初含大于1体积,且至多达10体积%之氧。 |
