| 主权项 |
1﹒一种用以消毒隐形眼镜之装置,其包括:a)一种能容纳合过氧化氢之隐形眼镜消毒溶液及一种隐形眼镜于消毒位置中的容器,b)上方部份触媒用以中和消毒溶液,其位置系约等于或高于镜片上缘,而此系镜片在该容器内之消毒位置中时如此,且C)下方部份触媒,其位置系在容器内而低于上方部份,该下方部份触媒所具催化上之反应性系低于上方部份触媒且一旦与消毒溶液相接触则能产生气泡用以驱动消毒溶液而其方向系向着该上方部份触媒;2﹒如申请专利范围第1项之装置,其中下方部份触媒驱动消毒溶液向着该上方部份触媒而以一种速率使镜片具有蓄积(%过氧化物)(分钟)曝露为至少20%过氧化物﹒分钟,此系从上方部份触媒与消毒溶液相接触之时间开始,即零时而历不超过12小时之期间。3﹒如申请专利范围第1项之装置,其中下方部份触媒系由铂黑所组成。4﹒如申请专利范围第1项之装置,其中下方部份触媒系沉积在该容器之内侧壁上。5﹒如申请专利范围第1项之装置,其中下方部份触媒系沉积在受体上而此系可嵌入该容器中。6﹒如申请专利范围第1项之装置,其中下方部份触媒与在消毒溶液中之过氮化氢相接触产生气泡。7﹒如申请专利范围第1项之装置,其中该下方部份触媒系由铂黑所组成。8﹒如申请专利范围第1项之装置,其中下方部份触媒与在消毒溶液中除了过氧化氢以外之成份相接触产生气泡。9﹒如申请专利范围第1项之装置,其中下方部份触媒系沉积在容器之内侧壁上。10﹒如申请专利范围第1项之装置,其中该下方部份触媒系沉积在容器之底部。11﹒如申请专利范围第1项之装置,其中该下方部份触媒系沉积在容器内侧壁及底部上。12﹒如申请专利范围第1项之装置,其中将在下方部份触媒从上片部份触媒分开而以侧壁空间。13﹒如申请专利范围第1项之装置,其中将该上方部份触媒及该下方部份触媒连接。14﹒一种经过氮化氢消毒稳定隐形眼镜之方法,其包括以含过氧化氢之溶液与该物质相接触及一种过氧化氢分解工具向顺应于允许该物质具有蓄积(%过氧化物)(分钟)曝露为至少20%过气化物﹒分钟,此系从敢分解工具与含该过气化物溶液相接触上时间即牢时间开始,历不超过12小时上期间;其中完成过氧化氢之分解而以上方部份触媒与消毒溶液相接触,其位置系约等于或高于镜片上缘而若镜片系在容器内之消毒位置中时,且同时与置于容器内而在上方部份以下上下方部份触媒相接触,该下方部份触媒之催化反应性系低于上方部份触媒且一旦与消毒溶液相接触则能产生气泡用以驱动消毒溶液向着该上方部份触媒上方向,15﹒如申请专利范围第14项之装置,其中该上方部份触媒系由铂黑所组成。16﹒如申请专利范围第14项之装置,其中该上方部份触媒系沉积在容器内侧壁上。17﹒如申请专利范围第14项之装置,其中该上方部份触媒系沉积在受体上而此系可嵌入容器内。18﹒如申请专利范围第14项之装置,其中该下方部份触媒一旦与在消毒溶液中之过氧化氢相接触则产生气泡。19﹒如申请专利范围第14项之装置,其中该下方部份触媒系由铂黑所组成。20﹒如申请专利范围第14项之装置,其中该下方部份触媒一旦与消毒溶液中除了过氧化氢以外之成份相接触,则产生气泡。21﹒如申请专利范围第14项之装置,其中该下方部份之触媒系沉积在容器之内侧壁上。22﹒如申请专利范围第14项之装置,其中该下方部份之触媒系沉积在容器之底部。23﹒如申请专利范围第14项之装置,其中该下方部份之触媒系沉积在容器之内侧壁及底部。24﹒如申请专利范围第14项之装置,其中将下方部份触媒从上方部份上触媒分开而以侧壁空间。25﹒如申请专利范围第14项之装置,其中将该上方部份触媒与该下方部份触媒连接。图示简单说明:图1系一种先前技艺A0sept系统,其中以铂触媒与3%过氧化氢溶液制图且以过氧化氢分解速率对着时间制图。图2所代表的是,依本发明,一个在经历过一段时间后之3%H202控制系统之典型分解外观。图3系说明各种不同触媒系统,其中将着蓄积曝露(以%分锺计)及初氧释放速率皆对时间作图。图4系说明控制蓄积曝露之方法而以部份包住触媒于一个容器中,如一条管子,其中具有开口而于催化反应期间以控制氧气从触媒系统中逸散出去。图5系一个根据本发明方法而欲以量测过氧化物而将隐形眼镜灭菌所占有之百分比的样品杯子,图6系一个图示而用以显示出过氧化氢之分解外观而以在过氧化物对时间曲线之蓄积面积之项目表示之。图7至10系一种重要的触媒分解装置,此分别说明了触媒在上方位置中之背观图(图7)。触媒在往下位置中之背观图(图8),触媒在上方位置中之侧观图(图9)及触媒在下方位置中之侧观图(图9)及触媒在下方位置中之侧观图。图11至15系各种不同重要触媒系统(而具不同曝露速率)之蓄积曝露对时间作图。图16系一种搅拌棒系统,藉以控制介于触媒及反应溶液间之接触而以藉着搅拌棒之搅拌作用。图17至23系说明装置而有用以进行在标题为「双重触媒控制系统」章节中所说明之方法。图24至26系说明装置而用以进行在标题为「经分布触媒控制系统」章节中所说明之方法。 |
