Thin film deposition apparatus

摘要

본 발명은 박막증착장치 에 관한 것이다. 본 발명에 따른 박막증착장치는 내부에 증착공간이 마련된 챔버, 상기 챔버 내부에 구비되어 프로세스가스를 공급하는 가스공급부, 상기 증착공간에 구비되어 기판이 안착되며 상기 가스공급부의 하부에서 소정거리 왕복이동 가능하게 구비되는 기판지지부 및 상기 가스공급부에서 공급된 공정가스에 의해 상기 챔버의 하부에 파우더가 쌓이는 것을 방지하는 파우더 제거부를 구비하는 것을 특징으로 한다.