一种极紫外光学元件表面污染清洗装置及方法

摘要

本发明涉及极紫外光刻技术领域，具体公开一种极紫外光学元件表面清洗装置及清洗方法。本发明的极紫外光学元件表面清洗装置包括清洗腔体；设置于清洗腔体外两侧的进气口和出气口；设置于清洗腔体内的样品支撑调节台、紫外光发生装置、CO₂浓度监控装置、O₃浓度监控装置；还包括工作气体控制装置、控制电路以及控制终端。本发明清洗装置和清洗方法，能有效实现极紫外光学元件表面污染的彻底清洗，同时防止极紫外光学元件表面发生氧化，提高极紫外光学元件潜在的长期使用寿命；能够保证排出气体的安全性，降低清洗过程对实验室环境和实验人员安全健康的影响。

主权项

一种极紫外光学元件表面清洗装置，其特征在于，所述清洗装置包括：清洗腔体；设置于所述清洗腔体外两侧的进气口和出气口；设置于所述清洗腔体内的样品支撑调节台、紫外光发生装置、CO₂浓度监控装置、O₃浓度监控装置；所述进气口用于通入工作气体；所述样品支撑调节台用于放置待清洗光学元件，并调整所述待清洗光学元件的位置；所述紫外光发生装置用于产生紫外光；所述CO₂浓度监控装置用于监控清洗过程中所述清洗腔体内的CO₂浓度；所述O₃浓度监控装置用于监控清洗过程中所述清洗腔体内的O₃浓度；所述清洗装置还包括工作气体控制装置、控制电路以及控制终端。