| 发明名称 | 作为全息光聚合物组合物中的书写单体的芳族二醇醚 | ||
| 摘要 | 本发明涉及包含特定芳族二醇醚作为书写单体、基质聚合物和光引发剂的光聚合物制剂。本发明还提供使用本发明的光聚合物制剂可获得的未曝光全息介质和可通过将全息图曝光到本发明的未曝光全息介质中而获得的曝光全息介质。本发明还提供包含本发明的曝光全息介质的显示器、本发明的曝光全息介质用于制造芯片卡、证明文件、3D图像、产品保护标签、标签、纸币或全息光学元件的用途，和特定的芳族二醇醚。 | ||
| 申请公布号 | CN106232651A | 申请公布日期 | 2016.12.14 |
| 申请号 | CN201580022029.2 | 申请日期 | 2015.03.24 |
| 申请人 | 科思创德国股份有限公司 | 发明人 | T.费克;F-K.布鲁德;T.罗勒;M-S.魏泽;D.赫内尔;H.贝尔内特;G.瓦尔策;R.哈根 |
| 分类号 | C08F290/06(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G11B7/24044(2013.01)I;C08F220/34(2006.01)I;C08F222/22(2006.01)I | 主分类号 | C08F290/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 张华;万雪松 |
| 主权项 | 光聚合物组合物，其包含A) 至少一种通式(I)的芳族二醇醚作为书写单体，<img file="597543dest_path_image001.GIF" wi="178" he="69" />其中Aryl是取代或未取代的芳族基团，且R<sub>1</sub>和R<sub>2</sub>各自独立地为式(II)或(III)的基团<img file="70113dest_path_image002.GIF" wi="210" he="106" /><img file="747344dest_path_image003.GIF" wi="118" he="95" />其中R<sub>3</sub>是具有最多6个碳原子的有机基团，其可含有氧原子和/或硫原子，且R<sub>4</sub>是选自‑H、‑CH<sub>3</sub>的基团；B) 基质聚合物；C) 光引发剂。 | ||
| 地址 | 德国勒沃库森 | ||