| 摘要 |
기본 모드에서 비유전율을 높일 수 있는 인공 유전체 공진기가 제공된다. 인공 유전체 공진기(1)는 각각 박판형의 복수의 금속 스트립(20)을 길이 방향으로 미시적 간극(20G)을 두고 배열하여 이루어지는 제1 계열 금속 스트립 그룹(2); 및 각각 박판형의 복수의 금속 스트립(30)을 길이 방향으로 미시적 간극(30G)을 두고 배열하여 이루어지는 제2 계열 금속 스트립 그룹(30)을 포함하며, 상기 제1 계열 금속 스트립 그룹(2) 및 상기 제2 계열 금속 스트립 그룹(3)은 상기 금속 스트립(20 및 30)의 두께 방향으로 서로 근접 배치되고, 한쪽의 금속 스트립 그룹(2 또는 3)의 금속 스트립(20 또는 30)은 다른 쪽의 금속 스트립 그룹(3 또는 2)의 간극(30G 또는 20G)에 대향해서 걸쳐지도록 배치되어 있다. |
