发明名称 烟气处理系统
摘要 本发明涉及用于清洁含有二氧化碳和二氧化硫的气流的气体清洁系统,所述气体清洁系统包括:预调理工段(3);CO<sub>2</sub>去除阶段(5);和后调理工段(4);所述预调理工段包括相对于所述气体的流向配置在所述CO<sub>2</sub>去除阶段(5)上游的至少两个气液接触装置(19、20);且所述后调理工段包括相对于所述气体的流向配置在所述CO<sub>2</sub>去除阶段下游的至少两个气液接触装置(30、31)。本发明还涉及用于清洁含有二氧化碳和二氧化硫的气流的方法,所述方法包括在二氧化碳去除步骤中通过使所述气流与包含氨的液体接触来从所述气流中至少部分地除去二氧化碳;在所述二氧化碳去除步骤上游的至少两个步骤中使所述气流与液体接触;和在所述二氧化碳去除步骤下游的至少两个步骤中使所述气流与液体接触。
申请公布号 CN106178887A 申请公布日期 2016.12.07
申请号 CN201610581196.7 申请日期 2010.11.11
申请人 通用电器技术有限公司 发明人 P.U.科斯
分类号 B01D53/78(2006.01)I;B01D53/50(2006.01)I;B01D53/62(2006.01)I 主分类号 B01D53/78(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 林毅斌;林森
主权项 用于清洁含有二氧化碳和二氧化硫的气流的气体清洁系统,所述气体清洁系统包括:预调理工段(3);CO<sub>2</sub>去除阶段(5);和后调理工段(4);所述预调理工段包括:所述预调理工段的第一气液接触装置(19),其在所述CO<sub>2</sub>去除阶段的上游以接收含有二氧化碳和二氧化硫的气流且使所述气体与液体接触;所述预调理工段的第二气液接触装置(20),其在所述CO<sub>2</sub>去除阶段的上游以接收自所述预调理工段的第一气液接触装置排出的气体且使所述气体与液体接触;所述CO<sub>2</sub>去除阶段包括CO<sub>2</sub>吸收器(6),所述CO<sub>2</sub>吸收器(6)配置成自所述预调理工段接收气流,使所述气流与包含氨的液体接触,且使贫CO<sub>2</sub>的气流排到所述后调理工段;所述后调理工段包括:所述后调理工段的第一气液接触装置(30),其在所述CO<sub>2</sub>去除阶段的下游以接收自所述CO<sub>2</sub>去除阶段排出的气体且使所述气体与液体接触;所述后调理工段的第二气液接触装置(31),其在所述后调理工段的第一气液接触装置的下游以接收自所述后调理工段的第二气液接触装置排出的气体且使所述气体与液体接触;其中所述预调理工段和所述后调理工段之一的第二气液接触装置配置成与所述另一工段中的第一气液接触装置液体连接,以便引导来自所述工段之一的第二气液接触装置的用过的液体的至少一部分以在所述另一工段中的第一气液接触装置中使用。
地址 瑞士巴登