发明名称 選択的接触還元に関する方法およびシステム
摘要 【課題】排気ガス流を処理するための排気処理システムを提供する。【解決手段】排気ガス流を処理するための排気処理システムには、排気ガス流を方向付けるための排気ダクト;排気ダクト内に配置された、排気ダクトを流れる排気ガス流を受け入れるための第1の触媒;および、冷却用空気と還元剤を排気ガス流に噴射するための噴射システムが含まれる。噴射システムには、還元剤を供給するための還元剤供給フィード;冷却用空気を供給するための冷却用空気供給フィード;還元剤供給フィードと冷却用空気供給フィードが一体となり、その後は複合供給フィードを形成するように構成された合流点;および、複合供給フィードに接続する排気ダクト内に配置されたインジェクタが含まれてよい。【選択図】図1
申请公布号 JP2017048787(A) 申请公布日期 2017.03.09
申请号 JP20160160924 申请日期 2016.08.19
申请人 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ 发明人 フア・ツァン;ゴードン・レイモンド・スミス;パラーグ・プラカーシュ・クルカルニ
分类号 F01D25/00;B01D53/94;F01D25/30;F01N3/02;F01N3/08;F01N3/22;F02C7/00 主分类号 F01D25/00
代理机构 代理人
主权项
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