发明名称 |
一种曝光机 |
摘要 |
本实用新型实施例提供一种曝光机,属于显示技术领域,能够解决UV掩膜版制作的遮光板的型号特定、UV掩膜版的利用率过低的问题。包括设置在机架上的遮光板载台、第一定位装置以及掩膜版载台,遮光板载台连接第一定位装置,并可在第一定位装置的带动下在水平面上移动,机架上还设置有透明对位件,透明对位件上设置有对位标,透明对位件通过第二定位装置设置于遮光板载台和掩膜版载台之间,第二定位装置可带动透明对位件在水平面上移动。 |
申请公布号 |
CN206115137U |
申请公布日期 |
2017.04.19 |
申请号 |
CN201621167470.8 |
申请日期 |
2016.11.01 |
申请人 |
合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
发明人 |
史高飞;张俊;周如;杨丽娟;刘承娜 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 |
代理人 |
申健 |
主权项 |
一种曝光机,包括设置在机架上的遮光板载台、第一定位装置以及掩膜版载台,所述遮光板载台连接所述第一定位装置,并可在所述第一定位装置的带动下在水平面上移动,其特征在于,所述机架上还设置有透明对位件,所述透明对位件上设置有对位标,所述透明对位件通过第二定位装置设置于所述遮光板载台和所述掩膜版载台之间,所述第二定位装置可带动所述透明对位件在水平面上移动。 |
地址 |
230012 安徽省合肥市新站区铜陵北路2177号 |