制造绝缘层的方法、制造含绝缘层的有机光电子器件的方法和含绝缘层的有机光电子器件

摘要

提出一种用于制造绝缘层的方法。所述方法包括下列方法步骤：A)提供前体，所述前体包括第一成分、第二成分和第三成分的混合物，其中‑第一成分包括通式IA的化合物，其中R¹和R²彼此独立地选自：氢和烷基残基并且n＝1至10000；第二成分包括通式IIA的化合物，其中R³代表烷基残基，并且第三成分包括至少一种胺类化合物；B)将前体施加到衬底上；C)硬化前体来形成绝缘层。

主权项

一种用于制造绝缘层(6a，6b，6c)的方法，所述方法具有如下方法步骤：A)通过混合第一成分、第二成分和第三成分提供前体，其中‑所述第一成分包括通式IA的化合物其中R¹和R²彼此独立地选自：氢和烷基残基，并且n＝1至10000；‑所述第二成分包括通式IIA的化合物其中R³代表烷基残基，并且‑所述第三成分包括至少一种胺类化合物B)将所述前体施加到衬底上；C)硬化所述前体来形成所述绝缘层。