发明名称 一种厚膜工艺塞孔真空工作台
摘要 本实用新型属于厚膜电电路技术领域,尤其是涉及一种厚膜工艺塞孔真空工作台。包括真空台,所述的真空台中设有真空腔,所述的真空腔与真空源相连接,所述的真空台上从上到下依次设置有陶瓷基板、阻挡层、密封层和真空过滤均布层。优点在于:一次印刷完成,由于采用透镜纸挡住塞孔浆料,所以可以一次将塞孔浆料吸入陶瓷基板连通孔内并填满;陶瓷基板表面无浆料溢出,由于一次印刷完成,不存在多次套印偏差;陶瓷基板连通孔内塞孔饱满,无空洞,使用透镜纸挡住塞孔浆料,浆料都留在孔内,且一次印刷,故有此效果;各位置塞孔效果都很好,一致性好,由于采用多孔石,各位置真空度均匀性好。
申请公布号 CN206100629U 申请公布日期 2017.04.12
申请号 CN201621190900.8 申请日期 2016.10.28
申请人 珠海市华晶微电子有限公司 发明人 王雅青;黄超;任春祥
分类号 H05K3/00(2006.01)I 主分类号 H05K3/00(2006.01)I
代理机构 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人 赵蕊红
主权项 一种厚膜工艺塞孔真空工作台,其特征在于,包括真空台(1),所述的真空台(1)中设有真空腔(2),所述的真空腔(2)与真空源(3)相连接,所述的真空台(1)上从上到下依次设置有陶瓷基板(4)、阻挡层、密封层和真空过滤均布层。
地址 519015 广东省珠海市南山工业区十二栋一至五层珠海市华晶微电子有限公司