发明名称 一种基于光场压缩采样的通用集成成像记录装置
摘要 本发明公开了一种基于光场压缩采样的通用集成成像记录装置,包括依次设置的镜头模块、光场压缩采样模块和传感器模块;所述的传感器模块连接存储与输出模块;所述的存储与输出模块和光场压缩模块均连接计算模块。本发明利用光学掩膜和成像透镜对三维场景进行压缩采样,兼顾了采样数据量和光场信息恢复要求,相对于现有集成成像记录端所采用的微透镜阵列结构会导致三维场景信息的大量丢失,从本发明所记录的图像中可近似完全恢复三维场景光场,便于后续处理生成适用于各种不同参数的集成成像三维显示系统显示的微单元图像阵列,对显示端参数没有限制,是一种通用的集成成像记录方法。
申请公布号 CN105208373B 申请公布日期 2017.04.12
申请号 CN201510589072.9 申请日期 2015.09.16
申请人 西安建筑科技大学 发明人 徐茵;王新怀;郝劲波;张春玲;付志强
分类号 H04N13/04(2006.01)I;G02B27/00(2006.01)I 主分类号 H04N13/04(2006.01)I
代理机构 西安恒泰知识产权代理事务所 61216 代理人 李婷
主权项 一种基于光场压缩采样的通用集成成像记录装置,其特征在于,包括依次设置的镜头模块、光场压缩采样模块和传感器模块;所述的传感器模块连接存储与输出模块;所述的存储与输出模块和光场压缩采样模块均连接计算模块;所述的镜头模块用于对三维场景进行选取;所述的光场压缩采样模块用于对三维场景中的光线进行压缩采样,得到二维光学图像;所述传感器模块用于记录二维光学图像;所述的计算模块用于生成随机矩阵,控制光场压缩采样模块的光学掩膜;所述的存储与输出模块用于存储或输出传感器模块记录的图像以及计算模块生成的随机矩阵;所述光场压缩采样模块包括沿光线传输方向依次设置的光学掩膜和成像透镜。
地址 710055 陕西省西安市雁塔路13号
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