发明名称 | 成像装置 | ||
摘要 | 本发明涉及成像装置。提供一种被配置为成像要被检查的对象的成像装置,该装置包括:被配置为将通过组合返回光和基准光获得的光分离成具有不同的偏振分量的多个光的分离单元;和被配置为检测多个光的检测单元。该装置还包括:被配置为校正由设置在测量光的光路或基准光的光路上的光学部件产生的不同的偏振分量之间的相位差的校正单元。 | ||
申请公布号 | CN105193378B | 申请公布日期 | 2017.04.12 |
申请号 | CN201510340405.4 | 申请日期 | 2015.06.18 |
申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 福原诚;户松宣博;住谷利治;佐藤真 |
分类号 | A61B3/14(2006.01)I | 主分类号 | A61B3/14(2006.01)I |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 杨小明 |
主权项 | 一种被配置为成像要被检查的对象的成像装置,其特征在于,包括:光分离单元,被配置为将通过组合来自被测量光照射的要被检查的对象的返回光和与测量光对应的基准光获得的光分离成具有不同的偏振分量的多个光;检测单元,被配置为检测所述多个光;第一反射部件,设置在测量光的光路或者基准光的光路上;和第二反射部件,被配置为沿与包含设置第一反射部件的光路的光轴的面相交的方向反射反射光,在不同的偏振分量之间由第一反射部件的反射产生的相位差通过第二反射部件的反射被校正,其中,第一反射部件和第二反射部件被设置为使得第一入射表面和第二入射表面相交,第一入射表面是由入射于第一反射部件的边界表面上的光及来自第一反射部件的边界表面的反射光限定的,第二入射表面是由入射于第二反射部件的边界表面上的光及来自第二反射部件的边界表面的反射光限定的。 | ||
地址 | 日本东京 |