用于电子束曝光的待曝光衬底及对准标记定位的方法

摘要

本发明公开了一种用于电子束曝光的待曝光衬底及对准标记定位的方法，包括：在待曝光衬底上形成方位标记、引导标记和对准标记；引导标记邻近于待曝光衬底的边缘；记录引导标记和对准标记在待曝光衬底上的位置信息；将待曝光衬底平置于样品台上，基于方位标记调节待曝光衬底在样品台上的朝向或转动角度，使得引导标记邻近于样品台的预定位置；调节电子束曝光系统，使得预定位置出现在视场中，并继而使得引导标记出现在视场中；步骤S4：根据引导标记和对准标记的位置信息确定对准标记相对于引导标记的位置，调节电子束曝光系统使得对准标记出现在视场内。该方法在电子束曝光套刻时能够快速简便地实现了衬底的对准，使得寻标、定标直观化。

主权项

一种用于电子束曝光的对准标记定位的方法，用于将待曝光衬底(10)上的用于与待曝光图案对准的对准标记(20)定位到电子束曝光系统中的视场内，包括：步骤S1：在所述待曝光衬底(10)上形成方位标记(30)、引导标记(40)和对准标记(20)；所述引导标记(40)邻近于所述待曝光衬底(10)的边缘(11)；并且，记录所述引导标记(40)和所述对准标记(20)在所述待曝光衬底(10)上的位置信息；步骤S2：将所述待曝光衬底(10)平置于所述电子束曝光系统的样品台(50)上，基于所述方位标记(30)调节所述待曝光衬底(10)在所述样品台(50)上的朝向或转动角度，并且使得所述待曝光衬底(10)的所述引导标记(40)邻近于所述样品台(50)的预定位置(51)；步骤S3：调节所述电子束曝光系统，使得所述样品台(50)的所述预定位置(51)出现在所述视场中，并继而使得所述引导标记(40)出现在所述视场中；步骤S4：根据所述引导标记(40)和所述对准标记(20)的位置信息确定所述对准标记(20)相对于所述引导标记(40)的位置，调节所述电子束曝光系统使得所述对准标记(20)出现在所述视场内。