发明名称 EEPROM存储单元的操作方法
摘要 一种EEPROM存储单元的操作方法。所述EEPROM存储单元包括中间电极、主存储位以及次存储位,所述主存储位包括第一扩散区和第一控制栅极,所述次存储位包括第二扩散区和第二控制栅极;所述EEPROM存储单元的操作方法包括:对所述EEPROM存储单元进行读取操作时,施加第一读取电压至所述中间电极,施加第二读取电压至所述第一控制栅极,施加第三读取电压至所述第二控制栅极和所述第一扩散区,将所述第二扩散区与读取电路连接。本发明提供的EEPROM存储单元的操作方法,提高了所述EEPROM存储单元的耐久性。
申请公布号 CN103811055B 申请公布日期 2017.03.29
申请号 CN201410084269.2 申请日期 2014.03.07
申请人 上海华虹宏力半导体制造有限公司 发明人 杨光军;胡剑
分类号 G11C16/02(2006.01)I;G11C16/26(2006.01)I 主分类号 G11C16/02(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 骆苏华
主权项 一种EEPROM存储单元的操作方法,所述EEPROM存储单元包括中间电极、主存储位以及次存储位,所述主存储位包括第一扩散区和第一控制栅极,所述次存储位包括第二扩散区和第二控制栅极;其特征在于,所述EEPROM存储单元的操作方法包括:对所述EEPROM存储单元进行读取操作时,施加第一读取电压至所述中间电极,施加第二读取电压至所述第一控制栅极,施加第三读取电压至所述第二控制栅极和所述第一扩散区,将所述第二扩散区与读取电路连接,所述第三读取电压为EEPROM的电源电压。
地址 201203 上海市浦东新区上海市张江高科技园区祖冲之路1399号