塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

摘要

【課題】良好なＣＤ均一性でレジストパターンを製造できる塩、酸発生剤、レジスト組成物等を提供することを目的とする。【解決手段】式（Ｉ）で表される塩、これを含む酸発生剤及びレジスト組成物。［式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基又は炭化水素基を表す。ｍ及びｎは、それぞれ独立に１又は２を表す。Ａｒは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又はヘテロ芳香族炭化水素基を表す。Ａ１はヒドロキシ基で置換されてもよい、（１＋ｓ）価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。Ｒ３は、ヒドロキシ基で置換されてもよい脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子２つがそれぞれ酸素原子に置換され、当該２つの酸素原子がアルカンジイル基と一緒になってフッ素原子を含んでもよいケタール環を形成してもよい。ｓは、１〜３の整数を表す。］【選択図】なし