半導体装置および半導体装置の製造方法

摘要

【課題】半導体装置の特性劣化を抑制し、良好な特性を有する半導体装置を提供する。【解決手段】半導体装置のソース電極８は、第１Ｔｉ膜２１、第２ＴｉＮ膜２２、第２Ｔｉ膜２３、Ａｌ−Ｓｉ膜２４が順に積層された構造を有する、または、半導体装置のソース電極８は、第１ＴｉＮ膜２０、第１Ｔｉ膜２１、第２ＴｉＮ膜２２、第２Ｔｉ膜２３、Ａｌ−Ｓｉ膜２４が順に積層された構造を有する。また、半導体装置の第２の保護膜１７は、ポリアミド膜である。【選択図】図１