发明名称 免封装高亮度LED芯片结构及其制作方法
摘要 本发明提供一种免封装高亮度LED芯片结构及其制作方法,包括:GaN基LED结构及透明衬底;GaN基LED结构包括反射镜、N型GaN层、发光层、P型GaN层、透明电极、P电极、N电极及P电极引出电极;反射镜、N型GaN层、发光层、P型GaN层及透明电极由下至上依次叠置;GaN基LED结构远离反射镜的一面为P面;P电极贯穿透明电极且与P型GaN层接触连接;N电极位于N型GaN层表面或位于反射镜表面;P电极引出电极一端与P电极相连接,另一端贯穿P型GaN层、发光层、N型GaN层及反射镜并延伸至反射镜的表面;透明衬底键合于GaN基LED结构的P面。本发明的LED芯片结构具有漏电率低、实现免封装及出光效率高等优点。
申请公布号 CN106531859A 申请公布日期 2017.03.22
申请号 CN201611169969.7 申请日期 2016.12.16
申请人 上海芯元基半导体科技有限公司 发明人 郝茂盛;袁根如;张楠
分类号 H01L33/02(2010.01)I;H01L33/46(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I 主分类号 H01L33/02(2010.01)I
代理机构 上海光华专利事务所 31219 代理人 余明伟
主权项 一种免封装高亮度LED芯片结构,其特征在于,所述免封装高亮度LED芯片结构包括:GaN基LED结构及透明衬底;所述GaN基LED结构包括反射镜、N型GaN层、发光层、P型GaN层、透明电极、P电极、N电极及P电极引出电极;所述反射镜、所述N型GaN层、所述发光层、所述P型GaN层及所述透明电极由下至上依次叠置;所述GaN基LED结构远离所述反射镜的一面为P面;所述P电极贯穿所述透明电极且与所述P型GaN层接触连接;所述N电极位于所述N型GaN层表面或位于所述反射镜表面;所述P电极引出电极一端与所述P电极相连接,另一端贯穿所述P型GaN层、所述发光层、所述N型GaN层及所述反射镜并延伸至所述反射镜的表面,以将所述P电极自所述反射镜一侧引出;所述透明衬底键合于所述GaN基LED结构的P面。
地址 201209 上海市浦东新区川沙路151号3幢T1046室