发明名称 プラズマ処理方法および電子部品の製造方法
摘要 【課題】カバーの裏面に付着する付着物を除去することができる、プラズマ処理方法を提供する。【解決手段】基板を保持する搬送キャリアを、ステージに載置する載置工程と、カバーとステージとの距離を、カバーが搬送キャリアに接触することなくフレームを覆う第1の距離に調節する距離調節工程と、距離調節工程の後、ステージに載置された基板に対して、プラズマ処理を行うプラズマ処理工程と、プラズマ処理工程の後、基板を、搬送キャリアとともに反応室から搬出する搬出工程と、搬出工程の後、反応室の内部にプラズマを発生させて、カバーに付着した付着物を除去する除去工程と、を含み、除去工程におけるカバーとステージとの距離が、第1の距離よりも大きい第2の距離である、プラズマ処理方法。【選択図】図1
申请公布号 JP2017054854(A) 申请公布日期 2017.03.16
申请号 JP20150175748 申请日期 2015.09.07
申请人 パナソニックIPマネジメント株式会社 发明人 針貝 篤史;松原 功幸;加納 秀夫;廣島 満;渡邉 彰三;和田 年弘
分类号 H01L21/3065;H01L21/301;H01L21/304;H01L21/683 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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