| 发明名称 | 一种用于二极管自动清洗的供水系统 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供一种用于二极管自动清洗的供水系统，包括水槽、供水管道、喷头和水压加压装置，所述喷头设置于供水管道的一端，供水管道的另一端伸至水槽内，水压加压装置设置于供水管道上，供水管道上设置有控制阀。以解决现有二极管清洗方式清洗效率低，劳动强度高，需要占用大量的人力成本，且人工清洗常常会有疏漏，造成部分二极管清洗不充分，影响二极管质量等问题。本实用新型属于二极管加工领域。 | ||
| 申请公布号 | CN206009300U | 申请公布日期 | 2017.03.15 |
| 申请号 | CN201620621210.7 | 申请日期 | 2016.06.22 |
| 申请人 | 贵州雅光电子科技股份有限公司 | 发明人 | 石治洪;欧博;文海;陈润和 |
| 分类号 | B08B3/02(2006.01)I | 主分类号 | B08B3/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 贵阳中新专利商标事务所 52100 | 代理人 | 商小川 |
| 主权项 | 一种用于二极管自动清洗的供水系统，其特征在于：包括水槽（1）、供水管道（2）、喷头（3）和水压加压装置（4），所述喷头（3）设置于供水管道（2）的一端，供水管道（2）的另一端伸至水槽（1）内，水压加压装置（4）设置于供水管道（2）上，供水管道（2）上设置有控制阀（5），供水管道（2）对应设置有多组喷头（3），每组喷头（3）对应固定于一沿横向设置的固定部（6）上，每组喷头（3）内设置有多个喷头（3）。 | ||
| 地址 | 550025 贵州省贵阳市金阳高新产业开发园区都匀路12号 | ||