光刻设备、转移衬底的方法和器件制造方法

摘要

一种光刻设备包括：衬底台、曝光后处理模块、衬底处理机器人及干燥站。所述衬底台被配置成支撑衬底用于曝光过程。所述曝光后处理模块是用于在曝光后处理所述衬底。所述衬底处理机器人被配置成将所述衬底从所述衬底台沿着衬底卸载路径转移至所述曝光后处理模块中。所述干燥站被配置成从所述衬底的表面主动地移除液体。所述干燥站定位于所述衬底卸载路径中。所述干燥站定位于所述曝光后处理模组中。所述曝光后处理模块可以是晶片处理器。

主权项

一种光刻设备，其包括：衬底台，所述衬底台被配置成用以支撑衬底用于曝光过程，在所述曝光过程中将所述衬底经由液体曝光至辐射光束以形成图案，曝光后处理模块，所述曝光后处理模块用于在曝光后处理所述衬底，所述曝光后处理模块包括储存单元，所述储存单元被配置成将多个衬底储存于所述储存单元的相应衬底容纳单元中；衬底处理机器人，所述衬底处理机器人配置成用以将所述衬底从所述衬底台沿着衬底卸载路径转移至所述曝光后处理模块内；以及干燥站，所述干燥站被配置成从所述衬底的表面主动地移除液体；其中所述干燥站定位于所述储存单元中。