| 摘要 |
L'invention se rapporte à un procédé de fabrication d'une pièce micromécanique horlogère à partir d'un substrat à base de silicium (1), comprenant, dans l'ordre, les étapes de :
a) se munir d'un substrat à base de silicium (1),
b) former des pores (2) à la surface d'au moins une partie d'une surface dudit substrat à base de silicium (1) d'une profondeur d'au moins 10 µm, de préférence d'au moins 50 µm, et plus préférentiellement d'au moins 100 µm, lesdits pores étant agencés pour déboucher à la surface externe de la pièce micromécanique horlogère. L'invention concerne également une pièce micromécanique horlogère comprenant un substrat à base de silicium (1) qui présente, à la surface d'au moins une partie d'une surface dudit substrat à base de silicium (1), des pores (2) d'une profondeur d'au moins 10 µm, de préférence d'au moins 50 µm, et plus préférentiellement d'au moins 100 µm, lesdits pores étant agencés pour déboucher à la surface externe de la pièce micromécanique horlogère |
