发明名称 |
一种真空膏霜灌装机 |
摘要 |
本实用新型公开了一种真空膏霜灌装机,包括第一料斗,所述的第一料斗下端设有出料管,所述的第一料斗下方设有封闭式的第二料斗,且所述的出料管设置在所述的第二料斗内部,所述的出料管上设有第一控制阀;所述的第二料斗下端设有罐装出料口,且该罐装出料口上设有第二控制阀,所述的第二料斗上还设有泄压阀和第三控制阀,所述的第三控制阀通过水管连接缓冲装置,且该缓冲装置连接真空泵,所述的缓冲装置和所述的真空泵之间设有第四控制阀。本实用新型有效的消除了膏霜状产品内部的气泡,从而提高了产品的质量。 |
申请公布号 |
CN205998979U |
申请公布日期 |
2017.03.08 |
申请号 |
CN201621023741.2 |
申请日期 |
2016.08.31 |
申请人 |
杭州稞恩生物科技有限公司 |
发明人 |
张锦标;李晓霞;吴帆;马玉新 |
分类号 |
B67C3/02(2006.01)I;B67C3/22(2006.01)I |
主分类号 |
B67C3/02(2006.01)I |
代理机构 |
常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 |
代理人 |
袁媛 |
主权项 |
一种真空膏霜灌装机,包括第一料斗(1),所述的第一料斗(1)下端设有出料管(2),所述的第一料斗(1)下方设有封闭式的第二料斗(3),且所述的出料管(2)设置在所述的第二料斗(3)内部,所述的出料管(2)上设有第一控制阀(4);所述的第二料斗(3)下端设有罐装出料口(5),且该罐装出料口(5)上设有第二控制阀(6),其特征在于,所述的第二料斗(3)上还设有泄压阀(7)和第三控制阀(8),所述的第三控制阀(8)通过水管(9)连接缓冲装置(10),且该缓冲装置(10)连接真空泵(11),所述的缓冲装置(10)和所述的真空泵(11)之间设有第四控制阀(12)。 |
地址 |
310000 浙江省杭州市经济技术开发区白杨街道10号大街(东)168号5幢2楼213室 |