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Ein Filmsystem weist ein Substrat und einen an dem Substrat angeordneten Film auf. Der Film weist eine aus einem Fluorkohlenwasserstoff gebildete Monoschicht und mehrere Bereichen auf, die in der Monoschicht angeordnet sind, so dass jeder der mehreren Bereiche an dem Fluorkohlenwasserstoff anliegt und von diesem umgeben ist. Jeder der mehreren Bereiche weist ein photokatalytisches Material auf. Ein Verfahren zum Formen eines Filmsystems umfasst, dass eine Monoschicht, die aus Fluorkohlenwasserstoff gebildet ist, an einem Substrat aufgetragen wird. Nach einem Auftragen umfasst das Verfahren, dass die Monoschicht abgetragen wird, um mehrere Hohlräume darin zu definieren, wobei jeder der mehreren Hohlräume von einem benachbarten der mehreren Hohlräume entlang der Monoschicht beabstandet ist. Nach einem Abtragen umfasst das Verfahren, dass ein photokatalytisches Material in jedem der mehreren Hohlräume eingebettet wird, um einen Film an dem Substrat zu bilden und dadurch das Filmsystem zu bilden. |
