发明名称 |
感光性樹脂組成物、そのレリーフパターン膜、レリーフパターン膜の製造方法、レリーフパターン膜を含む電子部品又は光学製品、及び感光性樹脂組成物を含む接着剤 |
摘要 |
従来技術による不具合を有さず、低温のプロセスで、容易に精度の高いポリイミドパターンを形成可能な感光性樹脂組成物を得る。(A)少なくとも一部にポリアミック酸、又は、ポリアミック酸エステルの繰り返し単位を有する高分子前駆体と、(B)活性光線の照射によって強塩基性第3級アミンを発生する非イオン性光反応型潜在性塩基性物質と、を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物が得られた。 |
申请公布号 |
JPWO2015019802(A1) |
申请公布日期 |
2017.03.02 |
申请号 |
JP20150530770 |
申请日期 |
2014.07.15 |
申请人 |
太陽ホールディングス株式会社 |
发明人 |
楊 大志;三輪 崇夫 |
分类号 |
G03F7/038;C08K5/34;C08L79/08;C09D5/25;C09D7/12;C09D179/08;C09J11/06;C09J179/08;G03F7/004 |
主分类号 |
G03F7/038 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|