发明名称 感光性樹脂組成物、そのレリーフパターン膜、レリーフパターン膜の製造方法、レリーフパターン膜を含む電子部品又は光学製品、及び感光性樹脂組成物を含む接着剤
摘要 従来技術による不具合を有さず、低温のプロセスで、容易に精度の高いポリイミドパターンを形成可能な感光性樹脂組成物を得る。(A)少なくとも一部にポリアミック酸、又は、ポリアミック酸エステルの繰り返し単位を有する高分子前駆体と、(B)活性光線の照射によって強塩基性第3級アミンを発生する非イオン性光反応型潜在性塩基性物質と、を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物が得られた。
申请公布号 JPWO2015019802(A1) 申请公布日期 2017.03.02
申请号 JP20150530770 申请日期 2014.07.15
申请人 太陽ホールディングス株式会社 发明人 楊 大志;三輪 崇夫
分类号 G03F7/038;C08K5/34;C08L79/08;C09D5/25;C09D7/12;C09D179/08;C09J11/06;C09J179/08;G03F7/004 主分类号 G03F7/038
代理机构 代理人
主权项
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