发明名称 光学部材の製造方法、半導体レーザ装置の製造方法及び半導体レーザ装置
摘要 【課題】平滑度の高い主面に良好な膜質の反射膜を備え、かつハンドリング性が良好な光学部材を高精度で、かつ簡便な方法にて製造する方法及びその光学部材を備えた半導体レーザ装置を提供することを目的とする。【解決手段】{110}面からなり、互いに平行な第1及び第2主面11a、11cを有するシリコン基板11を準備し、第1主面及び第2主面11a、11cに、一方向に伸びる開口12aを有するマスクパターン12を、第1及び第2主面11a、11c側の開口12aが交互に位置するように又は第1及び第2主面11a、11c側の開口12aが一致するようにそれぞれ形成し、シリコン基板11を、マスクパターン12をマスクとして用いてウェットエッチングして、第1主面側及び第2主面側に傾斜面11bを有する凹部を形成し、第1又は第2主面に反射膜13を形成することを含む光学部材の製造方法。【選択図】図1
申请公布号 JP2017045795(A) 申请公布日期 2017.03.02
申请号 JP20150165930 申请日期 2015.08.25
申请人 日亜化学工業株式会社 发明人 谷坂 真吾
分类号 H01L21/306;G02B5/08;H01S5/022;H01S5/18 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人
主权项
地址