| 发明名称 |
感光性コポリマー、このコポリマーを含むフォトレジスト組成物、およびこれから形成される物品 |
| 摘要 |
【課題】ＥＵＶ（極紫外線）ホトレジスト現像に適したホトレジスト、そのための感光性コポリマーの提供。【解決手段】式（ＸＸ）で表される電子感受性酸脱保護性モノマーと、コモノマーとの共重合体、該共重合体を含むフォトレジスト。（Ｒｘ及びＲｙは夫々独立に置換／非置換Ｃ１−１０アルキル基又はＣ３−１０シクロアルキル基；Ｒｚは置換／非置換Ｃ６−２０芳香族含有基又は環式脂肪族含有基；Ｒｘ及びＲｙは環を形成しても良く；Ｒｘ、Ｒｙ及びＲｚの少なくとも１つはハロゲン化されている）【選択図】図１ |
| 申请公布号 |
JP2017039937(A) |
申请公布日期 |
2017.02.23 |
| 申请号 |
JP20160181710 |
申请日期 |
2016.09.16 |
| 申请人 |
ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーＲｏｈｍ ａｎｄ Ｈａａｓ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ＬＬＣ |
发明人 |
オーウェンディ・オンゲイ;ジェームズ・ダブリュー．サッカレー |
| 分类号 |
C08F220/12;C08F220/24;C08F220/30;G03F7/039;G03F7/20 |
主分类号 |
C08F220/12 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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