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经营范围
发明名称
层合薄膜及挠曲性电子装置
摘要
一种层合薄膜,其为具有可挠性基材,与形成于前述基材的至少单侧之表面上的第1薄膜层,与形成于第1薄膜层上的第2薄膜层的层合薄膜,其中,前述第1薄膜层为含有矽原子(Si)、氧原子(O)及碳原子(C),前述第2薄膜层为含有矽原子、氧原子及氮原子(N),前述第1薄膜层及第2薄膜层为,使用辉光放电电浆所形成者。
申请公布号
TW201531582
申请公布日期
2015.08.16
申请号
TW103144078
申请日期
2014.12.17
申请人
住友化学股份有限公司 SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD.
发明人
山下恭弘 YAMASHITA, YASUHIRO;伊藤豊 ITO, YUTAKA;中岛秀明 NAKAJIMA, HIDEAKI
分类号
C23C16/42(2006.01);H01L51/50(2006.01);H05B33/02(2006.01)
主分类号
C23C16/42(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本 JP
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