等离子体处理装置

摘要

在一个实施方式的等离子体处理装置中，在载置台与处理容器之间设置有挡板构造。挡板构造具有第一构件和第二构件。第一构件具有在载置台与处理容器之间延伸的第一圆筒部，在铅垂方向上长的多个贯通孔以沿周向排列的方式形成于该第一圆筒部。第二构件具有第二圆筒部，该第二圆筒部具有比第一构件的圆筒部的外径大的内径。第二构件通过驱动装置而在包括第一构件与处理容器之间的间隙的区域中上下移动。

主权项

一种等离子体处理装置，用于对被处理体进行等离子体处理，该等离子体处理装置具备：处理容器；载置台，其设置在所述处理容器内，该载置台具有用于载置所述被处理体的载置区域；挡板构造，其在比所述载置区域靠下方的位置介于所述载置台与所述处理容器之间，该挡板构造在所述处理容器内规定出包括所述载置区域的第一空间和比所述载置区域靠下方的第二空间，该挡板构造具有：第一构件，其包括在所述载置台与所述处理容器之间延伸的第一圆筒部，在铅垂方向上长的多个贯通孔以沿周向排列的方式形成于该第一圆筒部；以及第二构件，其包括具有比所述第一圆筒部的外径大的内径的第二圆筒部；气体供给部，其与所述第一空间连接；排气装置，其与所述第二空间连接；以及驱动装置，其使所述第二圆筒部在包括所述第一构件与所述处理容器之间的间隙的区域中上下移动。