发明名称 |
含量子点的层叠体及其制造方法、背光单元、液晶显示装置及含量子点的组合物 |
摘要 |
本发明提供一种含量子点的层叠体的制造方法、含量子点的层叠体、背光单元、液晶显示装置及含量子点的组合物。本发明的含量子点的层叠体的制造方法依次具有如下工序:将含有量子点、固化性化合物及触变剂且剪切速度500s<sup>‑1</sup>及1s<sup>‑1</sup>时的粘度为3~100mPa·s及300mPa·s以上的含量子点的组合物涂布于第1基材上而形成涂膜的工序;在涂膜上层叠第2基材的工序;及对涂膜施加外部刺激而进行固化,形成含量子点的层的工序,并且生产性较高,可得到不发生涂布条纹的含量子点的层,且含量子点的层叠体的膜厚不均较小。 |
申请公布号 |
CN106457756A |
申请公布日期 |
2017.02.22 |
申请号 |
CN201580025679.2 |
申请日期 |
2015.05.18 |
申请人 |
富士胶片株式会社 |
发明人 |
米山博之;伊藤英明;小川朋成;国安谕司 |
分类号 |
B32B7/02(2006.01)I;F21S2/00(2016.01)I;F21V3/00(2015.01)I;F21V3/04(2006.01)I;G02F1/13357(2006.01)I |
主分类号 |
B32B7/02(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
周欣;陈建全 |
主权项 |
一种含量子点的层叠体的制造方法,依次具有如下工序:将含有量子点、固化性化合物及触变剂,剪切速度为500s<sup>‑1</sup>时的粘度为3~100mPa·s,且剪切速度为1s<sup>‑1</sup>时的粘度为300mPa·s以上的含量子点的组合物涂布于第1基材上而形成涂膜的工序A;在所述涂膜上层叠第2基材的工序B;及对被所述第1基材及所述第2基材夹持的所述涂膜施加外部刺激而固化,形成含量子点的层的工序C。 |
地址 |
日本东京 |