| 摘要 |
패턴 형성 방법은, 제1 패턴을 형성하여 제1 샷 배열을 규정하는 제1 단계와, 임프린트 처리를 실시함으로써, 상기 제1 패턴 상의 임프린트재에 제2 패턴을 형성하여 제2 샷 배열을 규정하는 제2 단계를 포함한다. 상기 제2 단계에서는, 상기 몰드를 변형시켜 상기 제1 샷 배열과 상기 제2 샷 배열 사이의 오버레이 오차를 저감하도록 상기 제2 샷 배열을 규정한다. 상기 제1 단계에서는, 상기 몰드를 변형시켜 상기 몰드에 형성된 상기 제2 패턴을 보정한 후 상기 제2 단계를 실시한 경우에 상기 기판 상에 규정될 수 있는 예상 제2 샷 배열의 정보에 기초하여, 상기 제1 샷 배열과 상기 제2 샷 배열 간의 오버레이 오차가 허용 범위 내에 속하도록 상기 제1 패턴을 형성한다. |
