ジメチル反応器の生成物ストリームから形成されたガス混合物の分離技術による加工処理

摘要

合成ガス（ｂ）からジメチルエーテルを合成するための反応器（４）の生成物ストリーム（ｄ）から形成され、少なくともジメチルエーテル、二酸化炭素および二酸化炭素より低い沸点を有する少なくとも１つの追加の成分を含むガス混合物（ｋ）の分離技術による加工処理に関する。ガス混合物（ｋ）は、第１の圧力レベルで、第１の温度レベルから第２の温度レベルまで冷却され、第２の温度レベルで気体のままであるガス混合物（ｋ）の残留部分は、吸収塔（１８）で二酸化炭素を主に含む還流物（ｖ）により洗浄される。主に二酸化炭素を含む還流物（ｖ）は、冷却プロセス中に液体として分離されたガス混合物（ｋ）の一部から少なくとも部分的に形成される。