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发明名称
スパッタリング装置
摘要
【課題】着火に有利な構成を有するスパッタリング装置の提供。【解決手段】ターゲット110の近傍の空間31の圧力が内側空間34よりも高くなるような圧力分布をチャンバ101内に形成する。これにより、ガス供給部22からのガスの供給の開始後に、プラズマを発生させるための着火が可能な状態に速やかに移行することができるスパッタリング装置100。【選択図】図1
申请公布号
JP2017036494(A)
申请公布日期
2017.02.16
申请号
JP20160137029
申请日期
2016.07.11
申请人
キヤノンアネルバ株式会社
发明人
石原 繁紀
分类号
C23C14/34;H05H1/46
主分类号
C23C14/34
代理机构
代理人
主权项
地址
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