发明名称 極端紫外線(EUV)検査システム
摘要 標的基板から反射された極端紫外(EUV)光をセンサに向かって反射する方法と装置が開示される。システムは、標的基板から反射されたEUV光を受け取り、反射するように配置された第一のミラーと、第一のミラーにより反射されたEUV光を受け取り、反射するように配置された第二のミラーと、第二のミラーにより反射されたEUV光を受け取り、反射するように配置された第三のミラーと、第三のミラーにより反射されたEUV光を受け取り、反射するように配置された第四のミラーと、を含む。第一のミラーは非球面を有する。第二、第三、および第四のミラーは各々、球面を有する。
申请公布号 JP2017504801(A) 申请公布日期 2017.02.09
申请号 JP20160545790 申请日期 2015.01.07
申请人 ケーエルエー−テンカー コーポレイション 发明人 クヴァーミー デーモン エフ
分类号 G01N21/956;G03F1/24;G03F1/84 主分类号 G01N21/956
代理机构 代理人
主权项
地址