发明名称 保持装置及び保持方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
摘要 【課題】歪みを生ずることなくウエハをステージ上に載置する。【解決手段】音圧源(超音波スピーカ150)を用いてウエハステージWST(ウエハホルダWH)上に載置されたウエハWに向けて音圧(超音波)を放射することでウエハを音圧加振し、そして、ウエハホルダWHを用いてウエハを吸着保持する。これにより、歪みを生ずることなくウエハを保持し、ウエハホルダ上に載置することが可能となり、ひいては高いパターンの重ね精度を維持することが可能となる。【選択図】図2
申请公布号 JP2017033021(A) 申请公布日期 2017.02.09
申请号 JP20160213437 申请日期 2016.10.31
申请人 株式会社ニコン 发明人 神山 隆英
分类号 G03F7/20;H01L21/683 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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