| 发明名称 | 精密光学元件的超声清洗方法 | ||
| 摘要 | 一种精密光学元件的超声清洗方法，所述工艺依次包括去离子水喷淋、去离子水超声清洗、去离子水喷淋、去离子水漂洗、切水、烘干工艺，所述的去离子水超声清洗是在40KHz‑270KHz中选择多个不同频率的超声清洗3‑5分钟，清洗温度为50‑60°；清洗时超声时间3‑5min，温度为50‑60°。本发明采用多频段超声加温清洗，利用不同频率的超声波所能清洗的最有效颗粒的对应关系，全面去除光学精密元件表面残留的污染物，提高了元件表面的清洁度，增强了光学元件的抗激光损伤等应用能力。 | ||
| 申请公布号 | CN106378334A | 申请公布日期 | 2017.02.08 |
| 申请号 | CN201610963031.6 | 申请日期 | 2016.11.04 |
| 申请人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明人 | 王建国;朱美萍;孙建;易葵;邵建达 |
| 分类号 | B08B3/10(2006.01)I;B08B3/12(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I | 主分类号 | B08B3/10(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人 | 张泽纯;张宁展 |
| 主权项 | 一种精密光学元件的超声清洗方法，该方法依次包括去离子水喷淋、去离子水超声清洗、去离子水喷淋、去离子水漂洗、切水、烘干的步骤，其特征在于所述的去离子水超声清洗是在40KHz‑270KHz中选择多个不同频率的超声清洗3‑5分钟，清洗温度为50‑60°。 | ||
| 地址 | 201800 上海市嘉定区上海市800－211邮政信箱 | ||