发明名称 半導体装置およびESD保護デバイス
摘要 ESD保護デバイス(1)は、ESD保護回路(10A)が表面に形成されたSi基板(10)と、Si基板(10)に形成されたパッド(P1,P2)と、Si基板(10)の表面と対向し、パッド(P1,P2)と導通している端子電極(25A,25B)を含む再配線層(20)とを備える。端子電極(25A,25B)は、樹脂層(22)に形成された開口(コンタクトホール)が接している領域以外のパッド(P1,P2)の一部を覆うように、Si基板(10)の表面に形成されたSiN保護膜(21)と、SiN保護膜(21)より誘電率が低く、SiN保護膜(21)および端子電極(25A,25B)の間に形成された樹脂層(22)とを含んでいる。これにより、寄生容量の発生を軽減でき、かつ、発生する寄生容量のばらつきをなくす半導体装置を提供する。
申请公布号 JPWO2014132938(A1) 申请公布日期 2017.02.02
申请号 JP20150502921 申请日期 2014.02.25
申请人 株式会社村田製作所 发明人 中磯 俊幸;加藤 登
分类号 H01L21/822;H01L23/12;H01L27/04 主分类号 H01L21/822
代理机构 代理人
主权项
地址