| 摘要 |
【課題】 転写すべきパターン領域内に欠陥が発生することを抑制する。【解決手段】 本発明のナノインプリント用テンプレートは、基材と、前記基材の第１の側に位置する転写すべき凹凸パターンと、前記基材の前記第１の側に対向する第２の側に位置する窪み部とを備えたナノインプリント用テンプレートであって、前記窪み部により規定される第１の領域と、前記第１の領域の周囲に存在し、前記第１の領域のいずれの箇所よりも前記基材の厚さが大きい第２の領域と、前記第１の領域の一部であって、前記凹凸パターンを包含するパターン領域と、を有し、前記第１の領域の最も撓む部位である最大撓み部が、前記パターン領域外にあり、前記第１の領域は前記基材の厚さが異なる部分を有することを特徴とする。【選択図】 図２ |
