发明名称 半導体装置の製造方法
摘要 【課題】半導体装置の信頼性を向上させるのに有利な技術を提供する。【解決手段】トランジスタが形成された半導体基板と、前記トランジスタのゲート電極に接続された第1コンタクトプラグと、前記半導体基板に接続された第2コンタクトプラグとを備える半導体装置の製造方法であって、前記半導体基板上に前記ゲート電極を覆う第1絶縁部材を形成する工程と、前記半導体基板の上面が露出するように前記第1絶縁部材に第1開口を形成する工程と、前記第1開口を導電性の第1部材で埋める工程と、前記第1絶縁部材の上に前記第1部材を覆う第2絶縁部材を形成する工程と、前記第1部材の上面が露出するように前記第2絶縁部材に第2開口を形成し、前記ゲート電極の上面が露出するように前記第1絶縁部材および前記第2絶縁部材に第3開口を形成する工程と、前記第2開口を導電性の第2部材で埋めて前記第2コンタクトプラグを完成させ、前記第3開口を導電性の第3部材で埋めて前記第1コンタクトプラグを形成する工程と、を有する。【選択図】図1
申请公布号 JP2017022292(A) 申请公布日期 2017.01.26
申请号 JP20150140059 申请日期 2015.07.13
申请人 キヤノン株式会社 发明人 福地 祐介
分类号 H01L21/768;H01L21/321;H01L21/336;H01L23/522;H01L27/146;H01L29/78 主分类号 H01L21/768
代理机构 代理人
主权项
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