| 摘要 |
본 발명은 반도체용 기판을 식각 및 세정하는 기판 액처리 장치에 관한 것이다. 기판 액처리 장치는, 테이블 상부에 처리면이 하부를 향하도록 기판을 이격하여 지지하는 기판 지지부; 테이블을 회전시키는 회전축을 구동하는 회전 구동부; 및 테이블과 기판 사이 처리 공간에 기체가 혼합된 미스트 상태의 처리액 또는 증기 상태의 처리액을 공급하는 처리액 공급부; 를 포함한다. 이에 의해, 기판과 테이블 사이 처리 공간의 분위기를 균일하게 하고, 처리면에 처리액을 균일하게 분사할 수 있다. |
