发明名称 METHOD OF PREPARING AND USING PHOTOSENSITIVE MATERIAL
摘要 일 실시양태에서 포지티브 톤 포토레지스트 및 네거티브 톤 포토레지스트 중 하나인 포토레지스트를 선택하는 단계를 포함하는 방법이 제공된다. 제1 첨가제 또는 제2 첨가제는 포토레지스트에 기초하여 선택된다. 제1 첨가제는 중합체에 부착된 불소 성분 및 염기 성분을 가지고, 포지티브 톤 레지스트가 제공되는 경우에 선택된다. 제2 첨가제는 중합체에 부착된 불소 성분 및 산 성분을 가지고, 네거티브 톤 레지스트가 제공되는 경우에 선택된다. 선택된 포토레지스트 및 선택된 첨가제 재료는 타겟 기판에 적용된다.
申请公布号 KR101698661(B1) 申请公布日期 2017.01.20
申请号 KR20150021981 申请日期 2015.02.13
申请人 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 发明人 지 안렌;우 첸하우;창 칭유
分类号 H01L21/027;G03F7/004;G03F7/26 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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